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當前位置:首頁產(chǎn)品中心薄膜制備設(shè)備等離子鍍膜設(shè)備GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀

磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品簡介:

GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的最-簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備,適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備,以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。

產(chǎn)品型號:GSL-1100X-SPC-16M

更新時間:2024-11-05

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

訪問量:1667

服務(wù)熱線

0755-26959531

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產(chǎn)品介紹

GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的最-簡單、可靠、

經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備,適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備,以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。

功能特點
  • 設(shè)有真空表、濺射電流表,可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。

  • 通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥,控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體,

  • 以獲得最佳鍍膜效果。

  • 鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計,可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。

  • 陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。

  • 根據(jù)電場中氣體電離特性,采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。

  • 濺射頭采用Peltier制冷技術(shù),可得到高性能、精細顆粒的涂層。

  • 可用水冷濺射頭、水冷載物臺。

技術(shù)參數(shù)
安裝條件本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
AC220V 50Hz,必須有良好接地
設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥)
工作臺尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上
通風裝置不需要
?50mm
真空室?160mm×120mm
最高真空度≤4×10-2mbar
最大電流50mA(100mA)
可設(shè)定最長時間9999s
微型真空氣閥連接?3mm軟管
最高電壓1600V DC
機械泵2L/s
尺寸360mm×300mm×380mm
可選配件金、銦、銀、鉑等各種靶材
標準配件1金靶材1個
2進氣針閥1個
3保險絲2個


GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀

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